MA-1200，實驗用曝光裝置，研究用曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505 MA-1200

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SMT設(shè)備，物料運輸，切削工具，作業(yè)工具，化學(xué)產(chǎn)品，測量儀器，供應(yīng)器材，環(huán)境設(shè)備。（SAKAGUCHI坂口電熱）（NIPPON MUKI日本無機）（SUIDEN瑞電）（IMAO今尾）（SGK昭和技研） (愛安得AND)(OSAWA大澤)

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產(chǎn)品名稱：MA-1200，實驗用曝光裝置，研究用曝光裝置，DNK大日本科研DSLY0505
產(chǎn)品型號：MA-1200
產(chǎn)品廠商：日本DNK大日本科研
產(chǎn)品價格：0
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簡單介紹：

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詳情介紹：

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簡練設(shè)計的手動式整面單次曝光裝置。

特長：

對應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)。
可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。
對應(yīng)*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學(xué)系統(tǒng)。

其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學(xué)鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等。

実験?研究用露光裝置

		MA-1200	MA-1400
基板尺寸		Max 200 x 200mm ?4" ～ ?6"	Max 400 x 400mm
光源		超高壓水銀燈：500W or 1kW	超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW
外觀尺寸及重量	本體尺寸	W1240 x D1100 x H1725 mm	W1440 x D1590 x H1882 mm
	本體重量	400kg	400kg(包含無塵機房)
	光源重量	－	250kg
選購項		無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應(yīng)破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。